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產(chǎn)品名稱：
水性環(huán)氧樹脂研磨分散機
產(chǎn)品型號： GMD2000/4更新時間： 2025-01-09描述：水性環(huán)氧樹脂研磨分散機，如果采用SGN高速剪切研磨分散機的話就可以解決機械法存在的問題，使得環(huán)氧樹脂微粒能較為穩(wěn)定地分散在水相中。SGN高速剪切研磨分散機簡單的將就是將SGN高剪切膠體磨和SGN高剪切分散機合二為一，形成兩級的設(shè)備，*級為膠體磨磨頭，實現(xiàn)研磨細化的功能；第二級為分散機分散盤，實現(xiàn)分散均勻的功能。
產(chǎn)品介紹
水性環(huán)氧樹脂研磨分散機，環(huán)氧樹脂分散機，水性環(huán)氧樹脂分散設(shè)備，涂料分散機，樹脂分散機
水性環(huán)氧樹脂通常是指環(huán)氧樹脂以微粒、液滴或膠體形式分散于水相中所形成的乳液、水分散體或水溶液，三者之間的區(qū)別在于環(huán)氧樹脂分散相的粒徑不同。
水性環(huán)氧樹脂分散后可以制備水性環(huán)氧樹脂涂料，一般有四種方式，較為簡單直接的是機械法，機械法即直接乳化法，可用膠體磨、球磨機、砂磨機等設(shè)備先將固體環(huán)氧樹脂預先磨成微米級的環(huán)氧樹脂粉末，然后加入乳化劑水溶液，再通過機械攪拌將粒子分散于水中; 或?qū)h(huán)氧樹脂和乳化劑混合，加熱到適當?shù)臏囟?，在激烈的攪拌下逐漸加入水而形成乳液。用機械法制備水性環(huán)氧樹脂乳液的優(yōu)點是工藝簡單，所需乳化劑用量較少，但乳液中環(huán)氧樹脂分散相微粒尺寸較大，粒子形狀不規(guī)則且尺寸分布較寬，所配得的乳液穩(wěn)定性差，粒子之間容易相互碰撞而發(fā)生凝結(jié)現(xiàn)象，并且該乳液的成膜性能也欠佳。
當然，機械法存在的問題是可以很好的去解決的，乳液穩(wěn)定性差，可以說明兩個原因，一是水性環(huán)氧樹脂的粒徑?jīng)]有充分的細化，二是水性環(huán)氧樹脂沒有更好的分散到水中，形成穩(wěn)定的乳液。如果采用SGN高速剪切研磨分散機的話就可以解決機械法存在的問題，使得環(huán)氧樹脂微粒能較為穩(wěn)定地分散在水相中。SGN高速剪切研磨分散機簡單的將就是將SGN高剪切膠體磨和SGN高剪切分散機合二為一，形成兩級的設(shè)備，*級為膠體磨磨頭，實現(xiàn)研磨細化的功能；第二級為分散機分散盤，實現(xiàn)分散均勻的功能。
水性環(huán)氧樹脂研磨分散機，接觸過SGN上海思峻的人都知道，SGN膠體磨和SGN分散機在行業(yè)就是較的設(shè)備，SGN膠體磨和國內(nèi)膠體磨相比、SGN分散機和國內(nèi)分散機相比都是存在巨大優(yōu)勢的，而SGN研磨分散機又是將二者結(jié)合的設(shè)備，處理效果，不言而喻。
SGN高速剪切研磨分散機有很高的線速度，以及*級磨頭，特殊上深下淺的三級磨頭結(jié)構(gòu)，一次處理即可滿足細化要求。*級刀頭形狀，可以把相對大塊的物料進行初步粉碎，以便能順利通過更細的兩級進行細微化研磨。 磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm，除了更精密之外，上深下淺的齒列結(jié)構(gòu)，相較溝槽是直線，同級的溝槽深度一樣的磨頭，可以保證物 料從上往下一直在進行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級磨齒，但他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。第二級分散盤，無論是在分散盤的結(jié)構(gòu)、還是定轉(zhuǎn)子的間隙都有比其他分散盤要精密的多。
GMD2000系列研磨分散設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
，環(huán)氧樹脂分散機，水性環(huán)氧樹脂分散設(shè)備，涂料分散機，樹脂分散機，用SGN高速剪切研磨分散機可獲得納米級水性環(huán)氧樹脂涂料。
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